663301
トリメチルアルミニウム
packaged for use in deposition systems
別名:
TMA, アルミニウムトリメタニド
サイズを選択してください
この商品について
vapor pressure
69.3 mmHg ( 60 °C)
Quality Level
description
heat of vaporization: ~41.9 kJ/mol (Dimer)
form
liquid
reaction suitability
core: aluminum
bp
125-126 °C (lit.), 127 °C/760 mmHg, 20 °C/8 mmHg, 56 °C/50 mmHg
mp
15 °C (lit.)
density
0.752 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
C[Al](C)C
InChI
1S/3CH3.Al/h3*1H3;
InChI key
JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N
General description
Application
- A chemical vapor deposition precursor to fabricate PbSe quantum dot solids for optoelectronic devices.
- An aluminum precursor for the flame synthesis of alumina nanofibers.
- A reagent for efficient synthesis of allenes.
Still not finding the right product?
Explore all of our products under トリメチルアルミニウム
signalword
Danger
hcodes
supp_hazards
保管分類
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
wgk
nwg
flash_point_f
No data available
flash_point_c
No data available
ppe
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
Hazard Classifications
Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react. 1
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
第3類:自然発火性物質及び禁水性物質 + アルキルアルミニウム + 危険等級I
fsl
名称等を表示すべき危険物及び有害物
ishl_indicated
名称等を通知すべき危険物及び有害物
ishl_notified
資料
ALD技術による薄膜およびナノ粒子の作製法および、それらナノ材料のリチウムイオン電池、燃料電池および太陽電池への応用について概説します。
原子層堆積法（ALD：atomic layer deposition）は、新規構造合成、領域選択での堆積、低温堆積などにおけるイノベーションをもたらします。
ナノ複合コーティングの調節可能性と、目的に合った膜を生成するための原子層堆積法の優れた適合性を紹介しています。