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この商品について
InChI
1S/4C3H7O.Ti/c4*1-3(2)4;/h4*3H,1-2H3;/q4*-1;+4
InChI key
VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N
SMILES string
CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C
assay
99.999%
Quality Level
reaction suitability
core: titanium, reagent type: catalyst
refractive index
n20/D 1.464 (lit.)
bp
232 °C (lit.)
mp
14-17 °C (lit.)
density
0.96 g/mL at 20 °C (lit.)
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関連するカテゴリー
General description
Application
- In Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (RF PECVD) for producing Titanium Oxide-incorporated Diamond-Like Carbon (TiOx-DLC) coatings with tunable mechanical and optical properties.
- In the sol-gel synthesis of mesoporous hybrid photocatalysts, enabling reduction of hexavalent chromium in aqueous solutions.
- In the hydrothermal synthesis of rutile-phase TiO₂ nanostructures on fluorine-doped tin oxide (FTO) substrates, facilitating the development of dye-sensitized solar cells.
- As a key precursor in the sol-gel synthesis of cellulose/PVA/TiO₂ nanocomposite films, enhancing their photocatalytic efficiency .
Features and Benefits
- High-purity (99.999% trace metals basis, <20ppm) precursors to prevent impurities from affecting film properties.
- Analyzing 68 elements at ppm levels ensures suitability for forming uniform films in semiconductor applications.
- Offer in 25 g in stainless steel cylinder, suitable for CVD/ALD instruments.
signalword
Warning
hcodes
Hazard Classifications
Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3
target_organs
Central nervous system
保管分類
3 - Flammable liquids
wgk
WGK 1
flash_point_f
105.8 °F - Pensky-Martens closed cup
flash_point_c
41 °C - Pensky-Martens closed cup
ppe
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
第4類:引火性液体 + 第二石油類 + 危険等級III + 非水溶性液体
fsl
名称等を表示すべき危険物及び有害物
ishl_indicated
名称等を通知すべき危険物及び有害物
ishl_notified
687502-BULK: + 687502-25G: + 687502-VAR:
jan
資料
ALD技術による薄膜およびナノ粒子の作製法および、それらナノ材料のリチウムイオン電池、燃料電池および太陽電池への応用について概説します。
原子層堆積法(ALD:atomic layer deposition)は、新規構造合成、領域選択での堆積、低温堆積などにおけるイノベーションをもたらします。
有機金属気相エピタキシー法(MOVPE)を用いた高効率集光型太陽光発電(CPV)デバイスの作製について論じます。
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Sigma-Aldrichでは、各種ALD前駆体化合物を販売しています。
ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.
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