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Acerca de este artículo
InChI key
BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N
InChI
1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3
SMILES string
CCO[Si](OCC)(OCC)OCC
vapor density
7.2 (vs air)
vapor pressure
<1 mmHg ( 20 °C)
assay
≥99.5% (GC)
form
liquid
refractive index
n20/D 1.382 (lit.)
bp
168 °C (lit.)
density
0.933 g/mL at 20 °C (lit.)
Quality Level
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Categorías relacionadas
Application
- Si oxide
- Oxycarbide
- Doped silicate
- Silanol
- Siloxane polymer
- Organosilicon thin films
The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.
signalword
Warning
hcodes
Hazard Classifications
Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3
target_organs
Respiratory system
Clase de almacenamiento
3 - Flammable liquids
wgk
WGK 1
flash_point_f
113.0 °F - closed cup
flash_point_c
45 °C - closed cup
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